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化工技术手册——芯片技术

2020-09-22 09:51:27

来源: www.qdf0605.com

作者:原创

化工技术手册——芯片技术

今年,美国在芯片技术领域,对我国进行限制。显现出我国在芯片设计生产制造领域,与国外企业有非常大的差别;特别是在芯片制造采用的光刻机和材料层面。

芯片制造的核心技术是光刻机,及采用的化工原料:光刻技术。我国现阶段的光刻机生产技术与国外差别非常明显,那我们的光刻技术生产技术情况怎么样呢?


化工技术手册——芯片技术

化工技术手册——芯片技术

光刻技术是一种对光敏感的高分子化合物,当被x光线、紫外光等光源直射时,就会发生相对应的化学变化的耐腐蚀刻材料。光刻技术组份:光稳定剂和光刻技术树脂、单个、其它助剂;光稳定剂和其它助剂占15%、光刻技术树脂占50%,单个占35%

现阶段光刻技术从运用方向分为:LCD光刻技术、PCB光刻技术、半导体材料光刻技术,前2个现在基础能够国产化,半导体材料光刻技术技术标准较高,现阶段相关技术与国外也有非常大差别。

化工技术手册告诉你具体的工艺流程怎么理解:

1、光刻技术涂布到晶圆表层前,先用氢氟酸、乙醇、过氧化氢等有机溶剂对晶圆表层清理。

化工技术手册——芯片技术

2、清理后,在晶圆表层涂上一层光刻技术,烘干后放到光刻机里。掩模板与晶圆指向(好比一样大小的两张纸指向),随后进行曝光,就是光照。

掩模板上分为图型区和没有图型的空白区,当光通过掩模板直射过去时,通过掩模板图型区域的光被图型挡住了,照不到图型下面的光刻技术。

能够这么理解,把掩模板当作一块涂有黑色图型的玻璃,当阳光照到玻璃上时,照到图型上的阳光透不过黑色图型。

通过空白区域的光因为没有图型挡住,直接通过空白区,照到了下面的光刻技术,这些光刻技术被光照后,会发生交联、聚合、分解等化学变化。

3、通过曝光后,再通过显影,显影液就会选择性地与被光照的光刻技术发生反应,这部分光刻技术就会溶解于显影液中。

4、再进行烘干,此时此刻没有被光照过的光刻技术就形成了掩模板上的图型。

化工技术手册——芯片技术

5、蚀刻工艺,所用蚀刻液会与没有光刻技术遮盖的晶圆表层发生反应,有光刻技术遮盖的晶圆表层触碰不到蚀刻液不容易发生反应。

6、除去剩下的光刻技术,此时此刻光刻技术下面没被蚀刻工艺的晶圆表层就形成了掩模板上的图型。

关注清道夫环保网了解更多化工技术手册。

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